最先端の蛍光X線ホログラフィー解析と超短パルスレーザーを用いた半導体微細加工技術を紹介します。半導体内部のドーパント構造の原子レベルの可視化と材料特性評価への活用、さらには波長の回折限界を超えた微細構造の形成と、光学・物理特性制御によるデバイス応用への可能性を解説します。
講座の詳細は、こちらを参照ください。
| 日時 | 2026年3月25日(水) 14:45〜17:30 |
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| 場所 | 名古屋工業大学 御器所キャンパス (JR/地下鉄「鶴舞駅」下車) 教室(講義)+ 研究室(見学) |
| 定員 | 20名 |
| 講師 | 物理工学類 准教授 木村耕治 物理工学類 助教 宮川鈴衣奈 |
| 予約方法 | 以下のページよりお申込みください。 |